第四百一十四章 电子产业的差距并不大

力还没有发挥出来，半导体在应用方面的发展似乎也进入到了一个瓶颈。

    而八五正是一个特殊的时间段，苹果的个人电脑刚刚有了雏形，微软公司和英特尔公司还没有显出爪牙，芯片行业似乎是一片沉寂，但这只是表面现象，就像是一个处于休眠状态的火山一样，一旦喷发就势不可挡。

    好在现在刘琅出现了，不说未来如何，起码现在大家已经凑到了一起准备开发芯片，只要这些人能够坚持下去，只要国家能够给予重视，那么十年之后国家的芯片产业必然要比刘琅的前世强出很多，最起码不会让西方国家掐着脖子喘不过气来。

    当然，现在很多人还认识不到芯片产业在未来世界会产生多么大的影响，他们现在的任务就是要把万贺公司的芯片给造出来，完成国家给的任务。

    王海军对这套晶圆设备很熟悉，每一个主要部件都认识，但若论技术，他比周明就差远了，做为见证过国家半导体行业从无到有的国家级专家，对这些密密麻麻，一般人看着都眼晕的集成电路板真是比亲人还亲，他跟熊怀志都是一样的人，对自己的事业比对自己的生命还要重要，所以当设备被拆分之后，他就成为了主角，所有人都要跟在他的后面了。

    “咱们国家最初的刻纹机………哦，西方人称之为光刻机，这个词还是更加贴切的…

    在二十年前，我们采用汞灯产生的 436nm g-line 和 365nm i-line 作为刻纹光源，当时就能满足0.8-0.35 微米制程的集成电路生产。

    而我们把早期………光刻机，是采用接触式刻纹，即掩模贴在硅片上进行刻纹，咱们国家的东方红卫星内部的很多集成电路版都是以这种方式刻录下的，不过这种刻纹容易产生污染，且掩模寿命较短。”

    周明一边仔细地看着一边自言自语道，显然面前的这台刻录机已经不再采用汞灯了，但具体是什么光源，看来还得打开研究。

    “周教授，现在光刻机采用的都是采用氟化氪准分子激光作为光源，这可以将最小工艺节点提升至零点一微米的水平，这台设备在光刻工艺上采用的是扫描投影式光刻，也是现在光刻机通用的一种，光源通过掩模，经光学镜头调整和补偿后，以扫描的方式在硅片上实现曝光。”

    呈贤此时出现在了现场，他虽然是一位芯片设计师，但对于晶圆设备也很了解，几年前也曾经到过湾湾那里对那边的工人进行培训。

    呈贤这个人对刘琅非常“崇拜”，在他眼里刘琅就是一位时代巨人，所以现在下定决心要好好跟着刘琅学习，这点技术自然不会私藏了。

    “准分子激光做为光源？真是厉害，这种激光技术在二十年前我们只是在课本上听说过，当时苏联似乎正在进行研究，我们国家的激光技术其实也很先进，早在二十年前就已经开始研究了，不过只用在了国防当中，现在美国人都应用到了生产之中了，佩服，佩服！”

    周明连连感叹。