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第八百九十四章 封锁i（第1页）

技术路线既然确认，那么接下来就是如何将其实现了。

王中军作为实验室的负责人，并不需要事无巨细的全面参与进去，更多的还是掌握方向和协调与督促进度。

想通过原子力显微镜来刻画光栅，最大的拦路虎看来就是硅探针的问题了。

既然要求是100纳米分辨率的光栅，那么探针的针尖应该至少在50纳米。

所谓光栅，其实就是一排透明和不透明交替的宽度相等的玻璃片。

它的分辨率，就是一组透明和不透明交替刻痕的总宽度。

如果这一组的宽度是100纳米，那么不透明刻痕的宽度就应该是50纳米。

想划出一条50纳米宽的刻痕，当然就需要50纳米细的针尖了。

“我们所有的要求都集中在这跟探针上面，我们的刻痕是50纳米，但我们的分辨率却不能只有50纳米。”

王中军顶着一头有些散乱的头发，充血的眼睛看起来像是有些睡眠不足，但说话的声音却是中气十足。

他用一支笔，指着幕布上的投影，接着给实验室里的其他研究员布置任务：：“探针材质必须是硅，我们的检材不会是绝对平滑，所以必须确保探针断裂也不会对材料造成污染。”

“它的形状应该是一个梯形，针尖是50纳米宽的平面，也就是500个硅原子的宽度。”

王中军想了想，补充了一句：“之前我认为用针尖直接敲击材料，这个思路是不合适的。

硅敲击硅，我们无法保证探针上的硅完整性，也就是说敲击的宽度是不可预测的。

所以直接敲击材料不合适，我们还需要用探针去除光刻胶，最后通过蚀刻和离子注入来实现光栅。”

“那么我们现在需要解决的就是三个问题，敲击探针、定位探针，以及满足各向异性的蚀刻。”

“敲击探针……老钟，这个就由你来负责。

技术上基于硅的特性，可以先尝试单晶硅生长法。”

“定位探针我来做，这个暂时还没有什么思路。”

“蚀刻和离子注入，我考虑采用干法刻蚀技术，相关的刻蚀机和PVD设备应用与改造……这个我们实验室无法单独完成，秦释你来与相关其他实验室进行对接。”

“咱们实验室分三组，一组跟老钟，一组跟我，秦释你暂时先带一个研究生去做协调工作。”

……

王中军临危不乱，实验室也就有了主心骨。

虽然要跨越式发展技术必然会面临巨大的困难，但一想到这个科研项目背后的意义，所有人的内心中都充满了必须倾力而为的使命感。

钟大华是个老研究员了，从光机所借调到新科之后，虽然没有什么特别突出的贡献，但他经手的每一个实验项目都从来没有出错过。

这五六年里，新科不仅为他涨了工资，而且还帮他把在长春的家人接过来安排了工作又解决了孩子上学的问题，最近又刚刚给他分配了一套一百二十平米的房子。

这样的待遇比起社会上那些做生意、做官的，可以说并没有差上多少了。

“嗯，具体的工作不能多说，不过最近两个月我可能会比较忙。”

钟大华拉开资料室机房的房门，脖子上夹着手机有些歉然的说道：“你和孩子说，他的生日等我回去了再补上吧，生日礼物随他挑。

你生活上如果有什么麻烦，可以去找黄姐，组织上总帮得上忙的。”